某光电器件治理 芯片手工加工厂在晶圆手工加工过程中 中，操作硅烷使用硅本质产生，排放洗涤剂塔产生高溶度含硅化工生产废水。化工生产废水兼备pH起伏较大大（2-11）、硅水平高的特性，经典治理 步骤易诞生硅垢堵住状况。 化工废水化学物质及收入 电镀废水一般营养成分为： 析出性硅酸盐 ：SiO₂氧化还原电位达1000-1500mg/L 氢氧化物钠/氢氧化物钠 ：洗滌塔碱酸洗滌液剩余的 粒子硅 ：納米级SiO₂固体 痕量砷 ：塑料原材料其它杂物融入 处里工艺设计工作流程 全新选取"多级中合+膜活性炭过滤+减压蒸馏沉淀"的工艺： 特一级采和 ：用CaO改善pH至4-5，形成硅酸钙奠定，硅清理率60%。 二次与 ：加Na₂CO₃将pH上升至9，进步沉定剩下的硅，串并联用镁剂除砷。 反渗透装置系统化 ：0.02μm陶瓷厂家膜脱水奈米级硅科粒，通量固定在80LMH。 MVR化掉器 ：果汁高盐废气，析出出Na₂SO₄副产的，水中水回用率超90%。 最中治疗效果 总硅从1500mg/L降为5mg/L下面 砷含量从0.8mg/L降落到0.01mg/L 模式无积垢进行不低于2年 年年回收处理氢氧化钾钠结晶体约800吨